International Standard
ISO 12406:2010
Surface chemical analysis — Secondary-ion mass spectrometry — Method for depth profiling of arsenic in silicon
Reference number
ISO 12406:2010
ISO 12406:2010
Edición 1
2010-11
2010-11
© ISO 2024
International Standard
ISO 12406:2010
51418
No disponible en español
Publicado
(Edición 1, 2010)
Esta norma se revisó y confirmó por última vez en 2021.
Por lo tanto, esta versión es la actual.
Resumen
ISO 12406:2010 specifies a secondary-ion mass spectrometric method using magnetic-sector or quadrupole mass spectrometers for depth profiling of arsenic in silicon, and using stylus profilometry or optical interferometry for depth calibration. This method is applicable to single-crystal, poly-crystal or amorphous silicon specimens with arsenic atomic concentrations between 1 x 1016 atoms/cm3 and 2,5 x 1021 atoms/cm3, and to crater depths of 50 nm or deeper.
Informaciones generales
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Estado: PublicadoFecha de publicación: 2010-11Etapa: Norma Internacional confirmada [90.93]
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Edición: 1Número de páginas: 13
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Comité Técnico :ISO/TC 201/SC 6ICS :71.040.40
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