Reference number
ISO 21859:2019
© ISO 2024
International Standard
ISO 21859:2019
Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics) — Test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment
Edition 1
2019-06
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No disponible en español
Publicado (Edición 1, 2019)

ISO 21859:2019

Idioma
Formato
CHF 42
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Resumen

This document specifies a test method for plasma resistance of ceramic components in semiconductor manufacturing equipment. It is applicable to ceramic components of plasma-resistant components in dry etching chambers used in semiconductor manufacturing.

Informaciones generales

  • Estado
     : Publicado
    Fecha de publicación
     : 2019-06
    Etapa
    : Cierre de la revisión [90.60]
  • Edición
     : 1
    Número de páginas
     : 4
  • Comité Técnico :
    ISO/TC 206
    ICS :
    81.060.30 
  • RSS actualizaciones

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