ISO 22415:2019
p
ISO 22415:2019
73135
Indisponible en français

État actuel : Publiée

fr
Format Langue
std 1 151 PDF + ePub
std 2 151 Papier
  • CHF151
Convertir les francs suisses (CHF) dans une autre devise

Résumé

This document specifies a method for measuring and reporting argon cluster sputtering yield volumes of a specific organic material. The method requires one or more test samples of the specified material as a thin, uniform film of known thickness between 50 and 1 000 nanometres on a flat substrate which has a different chemical composition to the specified material. This document is applicable to test samples in which the specified material layer has homogeneous composition in depth and is not applicable if the depth distribution of compounds in the specified material is inhomogeneous. This document is applicable to instruments in which the sputtering ion beam irradiates the sample using a raster to ensure a constant ion dose over the analysis area.

Prévisualiser 

Prévisualiser cette norme sur notre Plateforme de consultation en ligne (OBP)

Informations générales

  •  : Publiée
     : 2019-05
    : Norme internationale publiée [60.60]
  •  : 1
  • ISO/TC 201/SC 6
    71.040.40 
  • RSS mises à jour

Vous avez une question?

Consulter notre FAQ

Service à la clientèle
+41 22 749 08 88

Horaires d’ouverture:
De lundi à vendredi - 09:00-12:00, 14:00-17:00 (UTC+1)