Reference number
ISO 14706:2014
© ISO 2024
International Standard
ISO 14706:2014
Surface chemical analysis — Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy
Edition 2
2014-08
Preview
недоступно на русском языке
Опубликовано (Версия 2, 2014)
Последний раз этот публикация был пересмотрен в  2021. Поэтому данная версия остается актуальной.

ISO 14706:2014

Язык
Формат
CHF 129
Пересчитать швейцарские франки (CHF) в ваша валюта

Тезис

ISO 14706:2014 specifies a TXRF method for the measurement of the atomic surface density of elemental contamination on chemomechanically polished or epitaxial silicon wafer surfaces. The method is applicable to the following: elements of atomic number from 16 (S) to 92 (U); contamination elements with atomic surface densities from 1 × 1010 atoms/cm2 to 1 × 1014 atoms/cm2; contamination elements with atomic surface densities from 5 × 108 atoms/cm2 to 5 × 1012 atoms/cm2 using a VPD (vapour-phase decomposition) specimen preparation method.

Общая информация

  • Текущий статус
     : Опубликовано
    Дата публикации
     : 2014-08
    Этап
    : Подтверждение действия международного стандарта [90.93]
  • Версия
     : 2
  • Технический комитет :
    ISO/TC 201
    ICS :
    71.040.40 
  • RSS обновления

Жизненный цикл

Цели в области устойчивого развития

Данный стандарт разработан для достижения следующих Цели в области устойчивого развития

7
Недорогостоящая и чистая энергия
9
Индустриализация, инновации и инфраструктура

Появились вопросы?

Ознакомьтесь с FAQ

  2. Интернет-магазин
  3. Каталог стандартов
  4. МКС
  5. 71
  6. 71.040
  7. 71.040.40
  8. ISO 14706:2014