Norme internationale
ISO 5618-2:2024
Céramiques techniques — Méthode d’essai pour les défauts de surface des cristaux de GaN — Partie 2: Méthode de détermination de la densité des piqûres
Numéro de référence
ISO 5618-2:2024
Edition 1
2024-04
Prévisualiser
ISO 5618-2:2024
83694
Publiée (Edition 1, 2024)

ISO 5618-2:2024

ISO 5618-2:2024
83694
Langue
Format
CHF 129
Convertir les francs suisses (CHF) dans une autre devise

Résumé

Le présent document décrit une méthode de détermination de la densité des piqûres qui est utilisée pour détecter les dislocations et les défauts induits par le process et qui sont rencontrés sur les substrats de GaN monocristallin ou les films de GaN monocristallin.

Il est applicable aux défauts spécifiés dans l’ISO 5618-1 parmi les défauts émergents à la surface des types de substrats ou de films de GaN suivants: substrat de GaN monocristallin, film de GaN monocristallin formé par croissance homoépitaxiale sur un substrat de GaN monocristallin ou film de GaN monocristallin formé par croissance hétéroépitaxiale sur un substrat monocristallin de Al2O3, SiC ou Si.

Il est applicable aux défauts dont la densité des piqûres est ≤ 7 × 107 cm-2.

Informations générales

  •  : Publiée
     : 2024-04
    : Norme internationale publiée [60.60]
  •  : 1
     : 26
  • ISO/TC 206
    81.060.30 
  • RSS mises à jour

Vous avez une question?

Consulter notre Aide et assistance